| Titre : | CHEMICAL PHYSICS OF THIN FILM DEPOSITION PROCESSES FOR MICRO- AND NANO- TECHNOLOGIES |
| Auteurs : | Yves Pauleau, Éditeur scientifique |
| Type de document : | texte imprimé |
| Editeur : | Dordrecht : Kluwer Academic Publishers, 2002 |
| Collection : | NATO Science Series. Series II : Mathematics, Physics and Chemistry, num. 55 |
| ISBN/ISSN/EAN : | 978-1-4020-0525-1 |
| Format : | xiv-363 p. / 24 cm |
| Langues : | Anglais |
| Index. décimale : | MATE (MATERIAUX) |
| Mots-clés | Chemical preparation , Chemical vapour deposition , CVD , Electrochemistry , Epitaxy , Nanostructure , Sputtering , Thin films |
Exemplaires (1)
| Code-barres | Cote | Support | Localisation | Section | Disponibilité | Commentaire |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 007442 | MATE3 ASI/C/S | papier | CNRS | MATE (MATERIAUX) | Disponible |
