| Titre : | SILICIDE THIN FILMS - FABRICATION, PROPERTIES AND APPLICATIONS : Symposium held in Boston, 1995 |
| Auteurs : | Raymond T. Tung, Auteur ; Karen Maex ; Paul W. Pellegrini ; Leslie H. Allen ; Silicide Thin Films (1995-11-27/30; Boston, MA, USA) |
| Type de document : | texte imprimé |
| Editeur : | Pittsburgh : Materials Research Society, 1996 |
| Collection : | Materials Research Society Symposium Proceedings, num. 402 |
| ISBN/ISSN/EAN : | 978-1-55899-305-1 |
| Format : | 648 p. / 24 cm |
| Langues : | Anglais |
| Index. décimale : | MATE (MATERIAUX) |
| Mots-clés | Semiconductors , Silicon , Thin films |
Exemplaires (1)
| Code-barres | Cote | Support | Localisation | Section | Disponibilité | Commentaire |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 006900 | MATE3 TUN/C | papier | CNRS | MATE (MATERIAUX) | Disponible |
