| Titre : | HANDBOOK OF PHYSICAL VAPOR DEPOSITION (PVD) PROCESSING : Film formation, adhesion, surface prpreparation and contamination control |
| Auteurs : | Donald M. Mattox, Auteur |
| Type de document : | texte imprimé |
| Editeur : | New York NY : Noyes Publications, 1998 |
| ISBN/ISSN/EAN : | 978-0-8155-1422-0 |
| Format : | 917 p. / 25 cm |
| Langues: | Anglais |
| Index. décimale : | MATE (MATERIAUX) |
| Mots-clés | Adhesion , Chemical vapour deposition , CVD , Deposition , Growth , Handbook , Sputtering , Thin films |
Exemplaires (1)
| Code-barres | Cote | Support | Localisation | Section | Disponibilité | Commentaire |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 007156 | MATE3 MAT | papier | CNRS/armoire | MATE (MATERIAUX) | Exclu du prêt |
