| Titre : | HANDBOOK OF THIN-FILM DEPOSITION PROCESSES AND TECHNIQUES |
| Auteurs : | Klaus K. Schuegraf, Auteur |
| Type de document : | texte imprimé |
| Editeur : | New York NY : Noyes Publications, 1988 |
| Collection : | Materials Science and Process Technology Series |
| ISBN/ISSN/EAN : | 978-0-8155-1153-3 |
| Format : | 413 p. / 24 cm |
| Langues : | Anglais |
| Index. décimale : | MATE (MATERIAUX) |
| Mots-clés | Chemical vapour deposition , CVD , Deposition , Handbook , MBE , Molecular beam epitaxy , Sputtering , Thin films |
Exemplaires (1)
| Code-barres | Cote | Support | Localisation | Section | Disponibilité | Commentaire |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 007155 PERDU | MATE3 SCH | papier | CNRS | MATE (MATERIAUX) | Exclu du prêt |
